Laboratoire de Physique et Chimie des Nano-objets

Institut National des Sciences Appliquées
135 avenue de Rangueil, 31077 TOULOUSE CEDEX 4 - FRANCE
Tél : 00 33 05 61 55 96 45 | Fax : (+33) (0)5 61 55 96 97

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Équipements de l’équipe.

Notre équipe possède de nombreux équipements permettant l’élaboration, la caractérisation, et les mesures d’échantillons à base de nanoparticules magnétiques. Il a par ailleurs accès à des équipements en service au Laboratoire de Chimie de Coordination ou au service TEMSCAN de l’Université Paul Sabatier, tels que la magnétométrie SQUID, la spectroscopie Mössbauer, ou la microscopie électronique à balayage

Les équipements spécifiques au laboratoire sont :

- Un cryostat de mesures de magnéto-transport basse température : permet de faire des mesure à basse température (1.4-300 K) et fort champ magnétique (10 T) d’échantillons fortement résistifs (1 TOhm). Partagé avec les équipes "Nanotech" et "Optoélectronique quantique".

- Une boîte à gant couplée à un bâti de pulvérisation cathodique, permettant l’élaboration de dispositifs hybrides combinant nano-objets magnétiques sensibles à l’oxydation et couches minces. Le bâti de sputtering dispose de 4 cibles, dont 1 RF, de deux postes d’évaporation, et d’un porte échantillon chauffant jusqu’à 800°C.

- Un banc de mesure d’hyperthermie : permet la production de champs magnétiques de 30 mT à haute-fréquence (5-500 kHz), et la mesure simultanée de température dans un calorimètre.

- Un banc de mesure de photoconductivité pour la mesure d’échantillons haute-impédance, partagé avec l’équipe « Optoélectronique quantique".

- Une centrale de mesure Keithley 4200C pour C(V) et I(V). Partagée avec l’équipe "Nanotech".

Enfin, notre équipe possède un accès à la centrale technologique du LAAS par un projet RTB. Les équipements usuellement utilisés sont :

- la lithographie optique : oxydation de wafer, spin-coating, développement, métallisation par pulvérisation cathodique et évaporation, lift-off.

- la lithographie électronique : accès à un masqueur de lithographie RAITH, résolution 10 nm.

- la microscopie électronique à balayage avec canon à émission de champ (MEB-FEG)