Laboratoire de Physique et Chimie des Nano-objets

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Accueil du site > LPCNO > Publications > Articles > 2005 > Oxidation effects on transport characteristics of nanoscale MOS capacitors with an embedded layer of silicon nanocrystals obtained by low energy ion implantation

J. GRISOLIA, M. SHALCHIAN, G. BENASSAYAG, H. COFFIN, C. BONAFOS, S. SCHAMM, S. M. ATARODI, AND A. CLAVERIE.

Oxidation effects on transport characteristics of nanoscale MOS capacitors with an embedded layer of silicon nanocrystals obtained by low energy ion implantation

Materials Science and Engineering B, 124-125 (2005) 494-498.

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