Laboratoire de Physique et Chimie des Nano-objets

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Accueil du site > LPCNO > Publications > Articles > 2007 > Influence of the thickness of the tunnel layer on the charging characteristics of Si nanocrystals embedded in an ultra-thin SiO2 layer

C. Dumas, J. Grisolia, G. BenAssayag, C. Bonafos, S. Schamm, A. Claverie, A.Arbouet, M. Carrada, V. Paillard, M. Shalchian

Influence of the thickness of the tunnel layer on the charging characteristics of Si nanocrystals embedded in an ultra-thin SiO2 layer

Physica E, Physica E : Low-dimensional Systems and Nanostructures, 38 (2007) 80–84.

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