Laboratoire de Physique et Chimie des Nano-objets

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Accueil du site > LPCNO > Publications > Articles > 2008 > Nanostructured ZnO-based layers deposited by non reactive rf magnetron sputtering on ultra-thin SiO2/Si through a stencil mask

ABarnabe, M. Lalanne, L. Presmanes, Ph. Tailhades, C. Dumas, J. Grisolia, M. Naceur, A. Arbouet, V. Paillard, G. BenAssayag, M.A.F. van den Boogaart, J. Brugger and P. Normand

Nanostructured ZnO-based layers deposited by non reactive rf magnetron sputtering on ultra-thin SiO2/Si through a stencil mask

Thin Solid Films, sous presse

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