Laboratoire de Physique et Chimie des Nano-objets

Institut National des Sciences Appliquées
135 avenue de Rangueil, 31077 TOULOUSE CEDEX 4 - FRANCE
Tél : 00 33 05 61 55 96 45 | Fax : (+33) (0)5 61 55 96 97

Partenaires

CNRS
INSA


Choisir la langue du site


          Version Française           English Version

Rechercher

Sur ce site



Accueil du site > LPCNO > Publications > Articles > 2008 > Stencil assisted reactive ion etching for micro and nano patterning

B. Viallet, J. Grisolia, L. Ressier, M.A.F.van den Boogaart, J.Brugger, T. Lebraud

Stencil assisted reactive ion etching for micro and nano patterning

Microelectronic Engineering, Microelectronic Engineering 85 (2008) pp. 1705-1708, doi:10.1016/j.mee.2008.04.027

Dans la même rubrique :