Laboratoire de Physique et Chimie des Nano-objets

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Accueil du site > LPCNO > Publications > Articles > 2009 > Nanostructured ZnO-based layers deposited by non reactive rf magnetron sputtering on ultra-thin SiO2/Si through a stencil mask

A. Barnabé, M. Lalanne, L. Presmanes, Ph. Tailhades, C. Dumas, J. Grisolia, A. Arbouet, V. Paillard, G. BenAssayag, M.A.F. van den Boogaart, J. Brugger, P. Normand.

Nanostructured ZnO-based layers deposited by non reactive rf magnetron sputtering on ultra-thin SiO2/Si through a stencil mask

Thin Solid Films 518, 1044–1047 (2009)

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